摘要: 掠入射、全反射技术应用于化学的微量及超微量元素分析和表面分析，给X射线荧光分析技术带来了突破性的发展．目前，利用全反射X荧光分析技术对微量元素进行分析，其检测限已达到ｐg级，硅片表层杂质分析的检测限达到10９个原子／ｃｍ２．文章介绍了该技术的基本理论和特点、近年来国内外发展情况及应用的例子．