摘要: 高频等离子休沉积是高频放电等离子体化学气相沉积的简称，是近二十年来进展异常迅速的固体薄膜制备技术．在半导体工业中，这种技术已成为大规模集成电路干式生产工艺流程中的重要环节．自１９７３年以来，英国、美国、日本相继利用这种技术制成了氢化非晶硅（ａ－Ｓｉ：Ｈ）薄膜．如美国能量转换器件公司拥有能连续制造宽度为～３０ｃｍ的非晶硅薄膜太阳电池的大规模生产车间，电池效率达１０．１±０．３％．日本大皈府立大?...